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等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應,將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子,這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置,然后與被刻蝕的物質發(fā)生反應,形成揮發(fā)性反應物,這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備,是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度,隨著氣體的稀薄,分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長,在電場的作用下碰撞形成等離子體,這些離
WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試,就是在半導體硅片完成所有的制程工藝后,對硅圓片上的各種測試結構進行電性測試,它是反映產品質量的一種手段,是產品入庫前進行的一道質量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導體技術的發(fā)展,等離子體工藝已廣泛應用于集成電路制造中,離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損
等離子處理器也屬于干洗法,與傳統(tǒng)的濕法清洗器相比,電漿處理器具備工藝簡單、操作簡單、可控性高、精度高等特點,能一次清理表層不會有殘留物,反觀濕法清理一次清理不干凈還會有殘留物,如果使用大量的溶劑,對環(huán)境和人體都會有害。電漿清洗器在使用流程中,有兩種清理流程:化學變化和物理反應。電漿清理性能好,清理快,去除氧化物,**物和物體表層活化效果好,而且在使用流程中不會產生對人體和環(huán)境有害的氣體,是一種真正
**場效應晶體管(OFETS)是一種有源裝置,它能夠通過改變柵較電壓來改變半導體層的導電特性,然后操縱通過源漏較的電流。**場效應晶體管作為電路中的基本元件,以其低功耗、高阻抗、、可大面積生產等優(yōu)點,受到了廣泛的重視,并得到了迅速的發(fā)展。其組成元器件主要由電極、**半導體、隔熱層和基板組成,這些元件對OFET的性能有很大影響。通過電漿清洗機對電極、**半導體、絕緣層和基片進行處理,提高了材料的功能
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