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KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)
上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的部件,
?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準(zhǔn)確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點(diǎn), 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在
美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用
上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù), 安裝于各類真空設(shè)備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機(jī), lo
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產(chǎn)高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門, 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實(shí)現(xiàn)工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門, 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個(gè)配氣面板也需要測試整體漏率, 使用上海伯東德國 Pfeiffer?氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設(shè)置為 5.5x
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機(jī): 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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